鑽石拋光液

鑽石濃縮拋光液是適用於各類材質之修飾拋光，因為鑽石濃縮拋光液含有高濃度之鑽石液，可增加拋光移除效率而且鑽石磨料不會沉澱並且分散性比較佳，進而可以達

#C4418#Hyprez#ハイプレス#仕上#修護#鏡面模仁#鑽石拋光液#非球面模仁加工

鑽石濃縮拋光液是適用於各類材質之修飾研磨拋
光，因為鑽石濃縮拋光液內含有高濃度之鑽石磨
料，可增加拋光移除效率而且鑽石磨料不會沉澱
並且分散性比較佳，進而可以達到穩定拋光加工
要求。
一般正常拋光作業上可使用於精密零組件表面之
細緻修飾等加工，例如: 非球面模仁拋光加工等，
用途相似於Hyprez鑽石膏之拋光加工。

參考型號 :
1/10 - C4418 - MA.......240000#
1/4 - C4418 - MA........100000#
1/2 - C4418 - MA..........60000#
1 - C4418 - MA............14000#
3 - C4418 - MA.............8000#
6 - C4418 - MA.............3000#
9 - C4418 - MA.............1800#
15 - C4418 - MA.............1200#
30 - C4418 - MA..............600#
45 - C4418 - MA..............325#

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儒漢甡股

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儒漢甡股份有限公司代理日本Engis精密拋光機、鑽石液及Hyprez鑽石膏等

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